发明名称 光伏电池和光伏电池制造方法
摘要 光伏电池制造方法包括:在第一硅基底上沉积用于进行晶格驰豫的第一缓冲层;在第一缓冲层上沉积第一光电转换单元,第一光电转换单元是用包括pn结的化合物半导体形成的,并且第一光电转换单元具有比硅的晶格常数高的晶格常数;将支持基底连接至第一光电转换单元以形成第一层状体;和从第一层状体除去第一缓冲层以及第一硅基底。
申请公布号 CN104937727A 申请公布日期 2015.09.23
申请号 CN201380071183.X 申请日期 2013.11.25
申请人 株式会社理光 发明人 佐藤俊一;西山伸彦
分类号 H01L31/06(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/06(2012.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 宋莉
主权项 光伏电池制造方法,包括:在第一硅基底上沉积用于进行晶格驰豫的第一缓冲层;在第一缓冲层上沉积第一光电转换单元,第一光电转换单元是用包括pn结的化合物半导体形成的,并且第一光电转换单元具有比硅的晶格常数高的晶格常数;将支持基底连接至第一光电转换单元以形成第一层状体;和从第一层状体除去第一缓冲层和第一硅基底。
地址 日本东京都