发明名称 IMAGING OF DEEP STRUCTURES OR RELIEFS FOR SHALLOW RELIEF EMBOSSING
摘要 <p>다양한 깊은 구조화된 장식용 패턴은 기계적 양각 또는 에칭에서 유래한다. 깊이 패터닝된 또는 텍스춰링된 에칭 또는 양각은 박막 엠보싱 심에 병합되어, 박막 또는 재료를 엠보싱하는데 사용될 때 깊은 패턴 또는 텍스처의 모양을 시뮬레이팅한다. 양각 표면(브러싱된 금속, 엔진-튜닝된 패턴, 및 텍스춰링된 유리와 같은)의 투명 몰드는 UV 경화가능 액체 및 투명 기판을 이용하여 형성된다. 투명 몰드 또는 오버레이에서의 양각 복사본은 투명 몰드를 통해 하나 이상의 레이저 빔을 비추거나 펼침으로써 포토레지스트 표면 또는 플레이트 상에 매핑된다. 이 후 박막 엠보싱 심은 박막 엠보싱을 형성하기 위해 종래의 엠보싱 기기와 함께 사용된다. 이 후 엠보싱된 박막은 금속화되고 기판 상에 적층될 수 있어서, 백색 광에 노출될 때 다양한 시야각에서 반사하는 이동 패턴을 생성한다.</p>
申请公布号 KR101554905(B1) 申请公布日期 2015.09.22
申请号 KR20117000475 申请日期 2009.07.09
申请人 发明人
分类号 G03H1/04;H04N13/00 主分类号 G03H1/04
代理机构 代理人
主权项
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