用以处理基板之装置

主权项

一种用以处理基板之装置，包括：一制程腔室，其具有形成于其中之一空间；一卡盘，其定位于该制程腔室中且支撑一基板；一供气单元，其将反应气体供应至该制程腔室中；一上部电极，其定位于该卡盘上方且向该反应气体施加高频功率；一加热器，其安装于该上部电极中且对该上部电极加热；一第一上部电源，其将一第一频率功率施加至该上部电极；及一第一频率阻塞过滤器，其在该第一上部电源与该上部电极之间的一区域中电气连接至该第一上部电源及该上部电极，且阻挡施加于该上部电极之该第一频率功率施加于该第一上部电源。