| 主权项 |
一种曝光装置，透过投影光学系统使基板曝光，其具备：框构件，支撑前述投影光学系统；基板载台，配置于前述框构件所支撑之前述投影光学系统之下方，保持前述基板；编码器系统，对形成反射型格子之格子面与正交于前述投影光学系统之光轴之既定面实质上平行配置之格子构件，透过复数个读头分别从与前述既定面交叉之方向照射测量光束，以测量前述基板载台之位置资讯；驱动系统，驱动前述基板载台；以及控制系统，根据以前述编码器系统测量之位置资讯，控制前述驱动系统对前述基板载台之驱动；前述编码器系统中，前述格子构件与前述复数个读头中之一方设于前述基板载台，前述格子构件与前述复数个读头中之另一方支撑于前述框构件，藉由前述基板载台之移动，前述复数个读头中用于前述基板载台之驱动控制之读头切换至其他读头；前述控制系统，根据以前述切换前所使用之读头测量之位置资讯，决定待以前述切换后所使用之读头测量之位置资讯，在前述切换中，能分别使用以在前述切换之前后测量之位置资讯为一致之方式设定前述切换后所使用之读头之偏差之第1方式、以及在前述切换后亦接续使用设定于前述切换后所使用之读头之偏差之一部分之第2方式。
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