发明名称 氧化膜密着性优异之高强度铜合金板
摘要
申请公布号 TWI500782 申请公布日期 2015.09.21
申请号 TW101145453 申请日期 2012.12.04
申请人 神户制钢所股份有限公司 发明人 尾崎良一
分类号 C22C9/00;C22C9/02;C22C9/04 主分类号 C22C9/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种氧化膜密接性优异之高强度铜合金板,其特征在于,以质量%计含有下述成分者:Fe:0.02~0.5%;P:0.01~0.25%;余量:铜及不可避免之杂质,且Fe与P之质量%比Fe/P为2.0~5.0,进而,以电子背向散射绕射分析(EBSD)对表面进行观察时,近圆直径未达0.5μm之微细晶粒之面积对观察面积之面积比为0.90以下,且,以XPS分析所为之表面的C1s波峰面积值对Cu2p波峰面积值之比C1s/Cu2p为0.35以下。
地址 日本