| 摘要 |
<p>본 발명은 세정수의 안정된 공급이 가능한 식판 세척장치와, 식판 세척장치용 브러쉬 모듈에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 연속하여 이동되는 식판의 표면을 세척하는 세척공정과 상기 세척공정이 완료된 식판의 표면을 1차 및 2차로 헹금하는 헹굼공정을 순차적으로 실시함에 있어, 식판의 세정, 또는 헹굼부위에 세정수를 직접 분사시켜 세정수에 의한 세정 및 헹굼에 따른 효율성을 배가하고, 세정, 또는 헹굼을 도모하는 브러쉬모에 잔류된 이물질의 신속한 제거가 가능하도록 한 세정수의 안정된 공급이 가능한 식판 세척장치와, 식판 세척장치용 브러쉬 모듈에 관한 것이다.</p> |
