微细光阻图案形成用组成物及使用其之图案形成方法;FINE RESIST PATTERN-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

摘要

本发明之课题系提供表面皲裂少且可形成微细的负型光阻图案之组成物、与使用其之图案形成方法。本发明之解决手段系一种组成物，其系用以于使用化学增幅型正型光阻组成物形成正型光阻图案之方法中，藉由增大光阻图案而使图案微细化所使用之微细图案形成用组成物，其特征为包含重复单元中含有胺基之聚合物、溶剂与酸而成。藉由将该组成物涂布于显影后的正型光阻图案并加热，可形成微细的图案。