发明名称 |
布线构造及其制造方法、以及具备布线构造的显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种布线构造,其在有机EL显示器或液晶显示器等显示装置中,能够使半导体层与构成例如源极电极、漏极电极的Al系膜稳定地直接连接,并且在湿法工艺所使用的电解质液中,所述半导体层和Al系膜之间难以产生电化腐蚀,能够抑制Al系膜的剥离。布线构造在基板上从基板侧依次具备薄膜晶体管的半导体层、和与所述半导体层直接连接的Al合金膜,所述半导体层由氧化物半导体构成,所述Al合金膜包含Ni以及Co中的至少一种。 |
申请公布号 |
CN102473730B |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
CN201080031806.7 |
申请日期 |
2010.07.27 |
申请人 |
株式会社神户制钢所 |
发明人 |
后藤裕史;前田刚彰 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
樊建中 |
主权项 |
一种布线构造,在基板上从基板侧依次具备薄膜晶体管的半导体层、和与所述半导体层直接连接的Al合金膜,所述半导体层由氧化物半导体构成,所述Al合金膜包含Ni以及Co中的至少一种,所述Al合金膜还包含Cu以及Ge中的至少一种,在所述半导体层和所述Al合金膜的界面,使Ni以及Co的至少一种的一部分浓化,形成浓化层。 |
地址 |
日本兵库县 |