发明名称 布线构造及其制造方法、以及具备布线构造的显示装置
摘要 本发明提供一种布线构造,其在有机EL显示器或液晶显示器等显示装置中,能够使半导体层与构成例如源极电极、漏极电极的Al系膜稳定地直接连接,并且在湿法工艺所使用的电解质液中,所述半导体层和Al系膜之间难以产生电化腐蚀,能够抑制Al系膜的剥离。布线构造在基板上从基板侧依次具备薄膜晶体管的半导体层、和与所述半导体层直接连接的Al合金膜,所述半导体层由氧化物半导体构成,所述Al合金膜包含Ni以及Co中的至少一种。
申请公布号 CN102473730B 申请公布日期 2015.09.16
申请号 CN201080031806.7 申请日期 2010.07.27
申请人 株式会社神户制钢所 发明人 后藤裕史;前田刚彰
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 樊建中
主权项 一种布线构造,在基板上从基板侧依次具备薄膜晶体管的半导体层、和与所述半导体层直接连接的Al合金膜,所述半导体层由氧化物半导体构成,所述Al合金膜包含Ni以及Co中的至少一种,所述Al合金膜还包含Cu以及Ge中的至少一种,在所述半导体层和所述Al合金膜的界面,使Ni以及Co的至少一种的一部分浓化,形成浓化层。
地址 日本兵库县