电浆处理装置及聚焦环;PLASMA PROCESSING APPARATUS AND FOCUS RING

摘要

本发明旨在提供一种电浆处理装置及聚焦环，可抑制伴随着聚焦环之消耗之倾斜变动之进展。 其中，该电浆处理装置，包含：腔室，用来对被处理体进行电浆处理；载置台，设于该腔室之内部，具有载置被处理体之载置面；及聚焦环，设于该载置台，俾包围着载置于该载置面之该被处理体，其中，自内周侧朝外周侧依序形成有：第1平坦部，低于该载置面；第2平坦部，高于该第1平坦部，且不高于该被处理体之被处理面；及第3平坦部，高于该第2平坦部及该被处理体之被处理面。