基板处理装置及半导体装置的制造方法以及记录媒体

摘要

本发明的课题是藉由形成每1循环抑制残留物残留的层来形成高品质的薄膜。其解决手段系提供一种具有下列构成的技术，处理室，其系具有第1处理领域、第2处理领域及第3处理领域，在第1处理领域内、第2处理领域内及第3处理领域内处理基板；旋转机构，其系使载置基板的基板载置台旋转；处理气体供给系，其系对第1处理领域内供给原料气体，对第2处理领域内供给反应气体，对第3处理领域内供给改质气体；反应气体电浆生成部，其系于第2处理领域内生成反应气体的电浆；改质气体电浆生成部，其系于第3处理领域内生成改质气体的电浆；及控制部，其系构成为分别控制旋转机构、处理气体供给系、反应气体电浆生成部及改质气体电浆生成部。