发明名称 喷珠处理装置
摘要
申请公布号 TWI499483 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW100117176 申请日期 2011.05.17
申请人 新东工业股份有限公司 发明人 山本万俊
分类号 B24C1/10;B24C3/24 主分类号 B24C1/10
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种喷珠处理装置,其特征在于具有:将投射材以离心力加速并对被处理对象物投射之离心式投射机;配置于包含以前述离心式投射机投射投射材之投射范围与前述投射范围以外之非投射范围之位置且可旋转之第一旋转平台;于前述第一旋转平台上复数配置且具备与前述第一旋转平台之旋转轴平行之旋转轴而可旋转并可搭载前述被处理对象物之第二旋转平台;设于前述第一旋转平台之前述投射范围之上方侧且具备将前述第二旋转平台上之前述被处理对象物从上方侧按压并可与前述被处理对象物一起旋转之按压部之按压机构;配置于前述第二旋转平台之下方侧且设于前述第二旋转平台之旋转轴之第一咬合部;设于前述第一旋转平台之前述投射范围之下方侧且可对前述第一咬合部咬合且在与前述第一咬合部咬合之状态下传递旋转驱动力之第二咬合部;于前述第一旋转平台之暂时停止时使前述第二咬合部对前述第一咬合部接触并于前述第一旋转平台之旋转时使前述第二咬合部相对前述第一咬合部分离之接离机构。
地址 日本
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