发明名称 |
投影露光装置の光学素子を保護するためのブロック素子 |
摘要 |
本発明は、投影露光装置を動作させる電磁放射を伝搬するビーム経路を有し、ビーム経路に配置された少なくとも1つのフィルタ(55)を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置、特にEUV投影露光装置に関し、当該投影露光装置はフィルタを監視する少なくとも1つのセンサデバイスをさらに備え、待機位置とバリア位置との間で移動可能な少なくとも1つのブロック素子(60)が設けられ、ブロック素子の移動は、少なくともセンサデバイスの信号に依存して生じさせることができる。本発明はさらにこのような装置を動作させる方法に関する。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2015526770(A) |
申请公布日期 |
2015.09.10 |
申请号 |
JP20150529071 |
申请日期 |
2013.09.05 |
申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
ヨアヒム ハルトイェーズ;ベルンハルト ジテク;ギュンター デンゲル;マイク−ルネ ピアットコウスキー |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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