发明名称 |
钌络合物及其制造方法以及含钌薄膜的制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种通式(1a)、(2)、(3)等所示的钌络合物及该钌络合物的制造方法,其无论在使用氧化性气体作为反应气体的条件下还是在使用还原性气体作为反应气体的条件下均可用于制作含钌薄膜。(式中,R<sup>1a</sup>~R<sup>7a</sup>、R<sup>8</sup>~R<sup>9</sup>、R<sup>10</sup>~R<sup>18</sup>表示碳原子数1~6的烷基。n表示0~2的整数)。<img file="DDA0000755191760000011.GIF" wi="1009" he="1314" /> |
申请公布号 |
CN104903337A |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201380069822.9 |
申请日期 |
2013.12.06 |
申请人 |
东曹株式会社;公益财团法人相模中央化学研究所 |
发明人 |
多田贤一;山本俊树;尾池浩幸;摩庭笃;千叶洋一;岩永宏平;河野和久 |
分类号 |
C07F15/00(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I;H01L21/318(2006.01)I |
主分类号 |
C07F15/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
沈雪 |
主权项 |
一种钌络合物,其由通式(A)表示,<img file="FDA0000755191730000011.GIF" wi="1441" he="711" />式中,T表示CR<sup>A</sup>或氮原子,U表示氧原子或CH,R<sup>A</sup>、R<sup>B</sup>、R<sup>C</sup>、R<sup>D</sup>、R<sup>E</sup>、R<sup>F</sup>、R<sup>G</sup>、R<sup>H</sup>及R<sup>I</sup>各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基,m表示0、1或3的任一整数,五齿二烯基配位体β在m为1或3时具有环状结构,在m为0时具有非环状结构,其中,m为0时,T为CR<sup>A</sup>,U为氧原子,R<sup>F</sup>及R<sup>G</sup>为碳原子数1~6的烷基,R<sup>H</sup>及R<sup>I</sup>为氢原子,但不包括R<sup>A</sup>、R<sup>B</sup>、R<sup>C</sup>、R<sup>D</sup>及R<sup>E</sup>全部同时为甲基的情况;m为1时,T为CR<sup>A</sup>,U为CH,R<sup>I</sup>为碳原子数1~6的烷基,但在R<sup>F</sup>、R<sup>G</sup>及R<sup>H</sup>全部同时为氢原子时,不包括R<sup>A</sup>、R<sup>B</sup>、R<sup>C</sup>、R<sup>D</sup>、R<sup>E</sup>及R<sup>I</sup>全部同时为甲基的情况;m为3时,T为氮原子,U为CH,R<sup>B</sup>及R<sup>C</sup>为碳原子数1~6的烷基,R<sup>D</sup>、R<sup>E</sup>、R<sup>F</sup>及R<sup>G</sup>为氢原子,R<sup>H</sup>及R<sup>I</sup>为氢原子或甲基。 |
地址 |
日本山口县 |