发明名称 |
铜或铜合金、接合线、铜的制造方法、铜合金的制造方法及接合线的制造方法 |
摘要 |
一种铜或铜合金,其特征在于,α射线量为0.001cph/cm<sup>2</sup>以下。最近的半导体器件具有高密度化和高容量化,因此,受到来自于半导体芯片附近的材料的α射线的影响而发生软错误的危险增多。特别是,对于靠近半导体器件使用的铜或铜合金布线、铜或铜合金接合线、焊锡材料等的铜或铜合金的高纯度化的要求强烈,而且寻求α射线少的材料,因此,本发明的课题在于阐明铜或铜合金的α射线产生的现象并且得到能适应于所要求的材料的使α射线量降低后的铜或铜合金及以铜或铜合金作为原料的接合线。 |
申请公布号 |
CN103415633B |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201280012387.1 |
申请日期 |
2012.02.15 |
申请人 |
吉坤日矿日石金属株式会社 |
发明人 |
加纳学 |
分类号 |
C22B15/14(2006.01)I;C22C9/00(2006.01)I;C22C9/08(2006.01)I;C25C1/00(2006.01)I;C25C1/12(2006.01)I;C25C7/04(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I |
主分类号 |
C22B15/14(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
王海川;穆德骏 |
主权项 |
一种铜或铜合金,其特征在于,熔炼、铸造后的试样的α射线量为0.001cph/cm<sup>2</sup>以下,包含作为Pb的同位素的<sup>210</sup>Pb在内的Pb含量低于0.01ppm,U含量低于5重量ppb,Th含量低于5重量ppb。 |
地址 |
日本东京 |