| 发明名称 | 耐等离子性构件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种耐等离子性构件，其特征在于，具备：基材；及层状结构物，形成于所述基材的表面，包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性，所述层状结构物具有：第1凹凸结构；及第2凹凸结构，在所述第1凹凸结构上重叠而形成，具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。能够提高覆盖腔室内壁的被膜的密合强度或密合力，或能够减少微粒。 | ||
| 申请公布号 | CN104884409A | 申请公布日期 | 2015.09.02 |
| 申请号 | CN201380067799.X | 申请日期 | 2013.12.27 |
| 申请人 | TOTO株式会社 | 发明人 | 岩澤顺一;青岛利裕 |
| 分类号 | C04B35/50(2006.01)I;C04B41/87(2006.01)I | 主分类号 | C04B35/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 周善来;王玉玲 |
| 主权项 | 一种耐等离子性构件，其特征在于，具备：基材；及层状结构物，形成于所述基材的表面，包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性，所述层状结构物具有：第1凹凸结构；及第2凹凸结构，在所述第1凹凸结构上重叠而形成，具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。 | ||
| 地址 | 日本福冈县 | ||