发明名称 层积型半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI499022 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW101118423 申请日期 2012.05.23
申请人 东芝股份有限公司 发明人 筑山慧至;福田昌利;渡部博;沟口庆太;小牟田直幸
分类号 H01L23/488;H01L21/60;H01L23/28 主分类号 H01L23/488
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种层积型半导体装置,其包含:第1半导体晶片,其具有包含第1连接区域、及除上述第1连接区域以外之第1非连接区域之第1表面;第2半导体晶片,其具有包含与上述第1连接区域对向之第2连接区域、及除上述第2连接区域以外之第2非连接区域之第2表面,且层积于上述第1半导体晶片上;第1凸块连接部,其以电性连接上述第1半导体晶片与上述第2半导体晶片之方式,设置于上述第1表面之上述第1连接区域与上述第2表面之上述第2连接区域之间;止挡用突起,其局部设置于上述第1表面之上述第1非连接区域及上述第2表面之上述第2非连接区域之至少一区域上,且以非接着状态与上述第1非连接区域及上述第2非连接区域之另一区域接触;接着用突起,其局部设置于上述第1表面之上述第1非连接区域与上述第2表面之上述第2非连接区域之间,且接着于上述第1及第2非连接区域;及底部填充树脂,其填充于上述第1半导体晶片之上述第1表面与上述第2半导体晶片之上述第2表面之间之间隙。
地址 日本
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