图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件;PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

一种图案形成方法，其包括：(i-1)于基板上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物(1)来形成第1膜的步骤、(i-2)对第1膜进行曝光的步骤、(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第1膜进行显影，而形成第1负型图案的步骤；(iii)至少于第1负型图案上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物(2)来形成第2膜的步骤；(v)对第2膜进行曝光的步骤；以及(vi)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第2膜进行显影，至少于第1负型图案上形成第2负型图案的步骤。; (iii) a step of forming a second film at least on the first negative pattern by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition (2); (v) a step of exposing the second film; and (vi) a step of at least forming the second negative pattern on the first negative pattern by using a developer containing an organic solvent to develop the exposed second film.