发明名称 光波导之制法(二)
摘要
申请公布号 TWI498618 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW100123317 申请日期 2011.07.01
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 内藤龙介;长藤昭子
分类号 G02B6/138;G02B6/122 主分类号 G02B6/138
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种光波导之制法,系具有在将芯图案形成于下敷层的表面之后,使用形成有凹部的成形模而以覆盖上述芯的状态形成上敷层的步骤者,该凹部具有与上述上敷层的形状相对应的模面,该光波导之制法的特征在于,使用下述(A)的成形模来作为上述成形模,并藉由如下方式进行上述上敷层的形成:将上述成形模的凹部及沟部朝向上地设置,并对上述成形模的凹部内填充上述上敷层形成用的感光性树脂,其后,在将上述芯浸入该感光性树脂内并将从上述凹部内溢出的感光性树脂贮留在上述成形模的沟部内的状态下,透过上述成形模使上述凹部内的感光性树脂曝光并使其硬化而形成为上敷层;(A)是如下的由透光性树脂制成的成形模,即,将具有与上述上敷层形状相同的突起部分,和形成在该突起部分周围的突条部分的模构件设置在成形模形成用的容器内,对该容器内填充透光性树脂并使其硬化之后,从上述容器取出,并使上述模构件脱离所得到者,其以上述突起部分的脱离痕迹作为上述上敷层形成用的凹部,并将上述突条部分的脱离痕迹作为用于贮留从上述凹部溢出的上述上敷层形成用的感光性树脂的沟部。
地址 日本