| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur nasschemischen Behandlung von Objekten, insbesondere von flachen, insbesondere scheibenförmigen Gegenständen wie Halbleiter-Wafern, Substraten oder dergleichen (12, 14) mit einer Trommel (10) mit einer Beladungsöffnung (11) und einem Trommelboden (24), einer Halterung (16, 18) für die Objekte (12, 14), die um eine Rotationsachse drehbar in der Trommel (10) angeordnet ist, einem Motor (20) mit einer durch den Trommelboden (24) hindurchtretenden Antriebswelle (26) zum Antreiben der Halterung (16, 18), einer oder mehreren Chemikalien-Sprühdüsen (22) zum Besprühen der in der Halterung (16, 18) gelagerten Objekte (14) mit Chemikalien und einer oder mehreren Reinigungs-Sprühdüsen (30) zum Besprühen zumindest eines Teils der Innenseite der Trommel (10) mit einem Reinigungsmittel.</p> |
