SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE FILM, SUBSTRATE WITH MULTI-LAYER REFLECTION COATING, REFLECTION TYPE MASK BLANK, REFLECTION TYPE MASK AND METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

摘要

【課題】反射型マスクブランク及び多層反射膜付き基板の欠陥を欠陥検査装置及び座標計測機等によって検査・計測する際に、欠陥検査装置による検出欠陥の位置精度を向上する導電膜付き基板を提供する。【解決手段】導電膜２３表面における１μｍ?１μｍの領域を、原子間力顕微鏡で測定して得られるベアリングエリア（％）とベアリング深さ（ｎｍ）との関係において、導電膜２３表面が、（ＢＡ７０−ＢＡ３０）／（ＢＤ７０−ＢＤ３０）が１５以上２６０以下（％／ｎｍ）の関係式を満たし、かつ最大高さ（Ｒｍａｘ）が１．３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする。【選択図】図２