一种真空镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体，所述真空镀膜箱体的内底面上固定有一底座，所述的底座上设置有用于放置工件的工作台和驱动所述工作台旋转的驱动机构，所述真空镀膜箱体的内顶端上设置有滑移导轨，所述的滑移导轨上滑动均布有多个预加热装置，所述的预加热装置包括有滑块、金属挠性软管、反射罩、加热器，所述的滑块滑动设置于滑移导轨上并在滑动后通过锁紧螺栓与滑移导轨形成固定，金属挠性软管的一端与所述滑块固定，所述的反射罩为半圆形，并固定在金属挠性软管的另一端上，所述的加热器固装于反射罩内并朝向工作台。通过采用上述结构，本实用新型提供了一种可使工件均匀受热并有效改善后续镀膜效果的真空镀膜设备。

主权项

一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体，其特征在于：所述真空镀膜箱体的内底面上固定有一底座，所述的底座上设置有用于放置工件的工作台和驱动所述工作台旋转的驱动机构，所述真空镀膜箱体的内顶端上设置有滑移导轨，所述的滑移导轨上滑动均布有多个预加热装置，所述的预加热装置包括有滑块、金属挠性软管、反射罩、加热器，所述的滑块滑动设置于滑移导轨上并在滑动后通过锁紧螺栓与滑移导轨形成固定，金属挠性软管的一端与所述滑块固定，所述的反射罩为半圆形，并固定在金属挠性软管的另一端上，所述的加热器固装于反射罩内并朝向工作台。