发明名称 一种包覆超细粉体的原子层沉积方法与装置
摘要 本发明公开了一种包覆超细粉体的原子层沉积方法与装置,该方法的特征在于,在前驱体的吸附过程中引入了流化气,利用流化气吹散粉体,实现粉体的充分分散。该装置包括反应腔体,供应系统,真空系统,加热系统,监测系统和控制系统,其特征在于,供应系统包括流化气源,流化气通过流化气输送支路进入反应腔体,用于将粉体吹散到整个反应区域。本发明的方法与装置能有效提高粉体包覆率与沉积均匀性,并使得在每次沉积过程中对大量粉体进行包覆成为可能,提高了粉体包覆的效率。
申请公布号 CN103451623B 申请公布日期 2015.08.26
申请号 CN201310364445.3 申请日期 2013.08.20
申请人 华中科技大学 发明人 陈蓉;段晨龙;刘潇;曹坤;邓章;单斌;文艳伟
分类号 C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 朱仁玲
主权项 一种包覆超细粉体的原子层沉积方法,其特征在于,在前驱体的吸附过程中引入了流化气,利用流化气吹散粉体,实现粉体的充分分散;对于容易吸附的前驱体,采用不保压吸附,对于较难吸附的前驱体,采用保压吸附;所述不保压吸附的方法如下:向反应腔体持续通入流化气,将粉体吹散到整个反应区域,循环通入多个前驱体脉冲,并持续对反应腔体抽气;所述保压吸附的方法如下:向反应腔体依次交替通入流化气脉冲和前驱体脉冲多次,不对反应腔体抽气或减小抽气流量,进行保压。
地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号