发明名称 |
玻璃基板表面的异物去除方法 |
摘要 |
本发明提供一种适合去除用浮法制造的玻璃基板表面上存在的渣滓、尤其是模具残留渣的方法。本发明玻璃基板表面的异物去除方法的特征在于,对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中的至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液,和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属,使上述无机酸以及上述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m<sup>2</sup>以上,对该面进行蚀刻处理后,对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨,使研磨量为0.1μm以上2μm以下。 |
申请公布号 |
CN104870390A |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201380066636.X |
申请日期 |
2013.12.18 |
申请人 |
旭硝子株式会社 |
发明人 |
堀江满;木村宏 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I;C03C19/00(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
胡烨;金明花 |
主权项 |
一种玻璃基板表面的异物去除方法,其特征在于,对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液,和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属,使所述无机酸水溶液以及所述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m<sup>2</sup>以上,对该面进行蚀刻处理后,对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨,使研磨量为0.1μm以上2μm以下。 |
地址 |
日本东京 |