发明名称 |
掩膜板的制备方法和掩膜板 |
摘要 |
本发明公开了一种掩膜板的制备方法和掩膜板,属于液晶技术领域。方法包括:制备第一复合膜层,所述第一复合膜层包括第一保护层、粘贴层、遮挡层和第二保护层;按照产品上的待曝光区域,对第一复合膜层中的第一保护层、粘贴层和遮挡层进行切割,得到第二复合膜层;揭除所述第二复合膜层中的第一保护层以及所述待曝光区域对应的粘贴层和遮挡层,得到第三复合膜层;将所述第三复合膜层贴附在透明基板上,去除所述第二保护层。本发明大大简化掩膜板制作的繁琐程度,减少制作耗时。 |
申请公布号 |
CN104865791A |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201510184143.7 |
申请日期 |
2015.04.17 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
张小磊;藤野诚治;王小虎 |
分类号 |
G03F1/68(2012.01)I;G03F1/00(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/68(2012.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
祝亚男 |
主权项 |
一种掩膜板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:制备第一复合膜层,所述第一复合膜层包括第一保护层、粘贴层、遮挡层和第二保护层;按照产品上的待曝光区域,对第一复合膜层中的第一保护层、粘贴层和遮挡层进行切割,得到第二复合膜层;去除所述第二复合膜层中的第一保护层以及所述待曝光区域对应的粘贴层和遮挡层,得到第三复合膜层;将所述第三复合膜层贴附在透明基板上,去除所述第二保护层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |