| 发明名称 | 化学浴沉积的方法和系统 | ||
| 摘要 | 一种用于化学浴沉积的装置，包括：限定化学罐的壳体、循环管道、和设置在化学罐内部的至少一个流量调节器件。化学罐具有位于顶面上的开口，并且化学罐配置为在其中接收和容纳至少一个衬底。循环管道具有位于化学罐内部的至少一部分，并且循环管道配置为向化学罐供给至少一种化学物质。至少一个流量调节器件包括涡轮机、扩散器和起泡器、或它们的组合中的任何一种。本发明涉及化学浴沉积的方法和系统。 | ||
| 申请公布号 | CN104868018A | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
| 申请号 | CN201410213787.X | 申请日期 | 2014.05.20 |
| 申请人 | 台积太阳能股份有限公司 | 发明人 | 蔡佩臻 |
| 分类号 | H01L31/20(2006.01)I;C23C18/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种用于化学浴沉积的装置，包括：壳体，限定化学罐，所述化学罐具有位于顶面上的开口，并且所述化学罐配置为在所述化学罐中接收和容纳至少一个衬底；循环管道，具有位于所述化学罐内部的至少一部分，并且所述循环管道配置为向所述化学罐供给至少一种化学物质；以及至少一个流量调节器件，设置在所述化学罐内部，所述至少一个流量调节器件包括涡轮机或扩散器。 | ||
| 地址 | 中国台湾台中市 | ||