可饱和吸收体中的缺陷检测

摘要

一般地描述了用于通过吸光率随着光强度提高而降低的可饱和特性来识别可饱和吸收体(诸如石墨烯)中的缺陷的技术。例如，可在两个完全不同的入射强度下使包覆石墨烯的基板成像两次。在石墨烯中的间隙处，基板可反射与入射强度成比例的光。随着照射强度提高，石墨烯可在反射光上显示出非线性增加。所述两个入射强度之间的差异可揭示石墨烯中的间隙。可利用任何合适的成像技术，诸如共焦显微镜或线性扫描。对于高体积自动检查，可按比例放大成像。

主权项

一种使用可饱和吸收体检测样品中的一个或多个缺陷的方法，包括：获取可饱和吸收体在第一入射强度的明视场电磁辐射下的关于所述可饱和吸收体上的位置的第一反射强度；获取所述可饱和吸收体在第二入射强度的明视场电磁辐射下的关于所述位置的第二反射强度，第二入射强度大于第一入射强度足以至少部分使所述可饱和吸收体的吸收率值饱和的量；确定对应于第二入射强度除以第一入射强度的入射强度比；确定关于所述位置的对应于第二反射强度除以第一反射强度的反射强度比；通过确定关于所述可饱和吸收体上的多个位置的反射强度比来产生关于所述可饱和吸收体的反射强度比图；以及将所述反射强度比与所述入射强度比进行比较以识别所述多个位置中的一个或多个处的一个或多个缺陷。