发明名称 SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLIES FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES
摘要 <p>진공 챔버 내부에 장착되도록 구성된 샤워헤드 전극; 상기 샤워헤드 전극에 부착된 선택적 백킹 플레이트; 상기 백킹 플레이트에 걸친 다수의 접촉 영역에서 상기 백킹 플레이트 또는 상기 샤워헤드 전극에 부착된 열 제어 플레이트; 및 상기 접촉 영역에서, 상기 백킹 플레이트와 상기 열 제어 플레이트, 또는 열 제어 플레이트와 샤워헤드 전극을 분리시키는 적어도 하나의 인터페이스 부재를 포함하고, 상기 인터페이스 부재는 열적 및 전기적 전도성 개스킷부와 미립자 완화 밀봉부를 갖는, 샤워헤드 전극 조립체가 개시된다. 또한, 상기 샤워헤드 전극 조립체를 사용하여 반도체 기판을 처리하는 방법이 개시된다.</p>
申请公布号 KR101546992(B1) 申请公布日期 2015.08.25
申请号 KR20107027653 申请日期 2009.05.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/34 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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