| 主权项 |
一种曝光装置，透过投影光学系统以照明光使基板曝光，其特征在于，具备：框架构件，支承该投影光学系统；基座构件，配置于该投影光学系统之下方，且表面与该投影光学系统之光轴正交之既定平面实质平行地配置；保持构件，配置于该基座构件上，且较该基板之载置区域与该载置区域为低而配置，且具有：具有格子之测量面；曝光站，具有：第1测量构件，被该框架构件支承，且一部分配置于该投影光学系统之下方；第1测量系统，其透过以于该测量面与该基座构件之表面之间配置之方式设于该第1测量构件之第1读头部，而对于该测量面从其下方照射第1测量光束，进行该保持构件之位置资讯之测量；且该曝光站进行透过该投影光学系统将该照明光照射至该基板之曝光处理；测量站，具有：检测系统，自该投影光学系统远离而被该框架构件支承；第2测量构件，被该框架构件支承，且一部份配置于该检测系统之下方；第2测量系统，其透过以于该测量面与该基座构件之表面之间配置之方式设于该第2测量构件之第2读头部，而对于该测量面从其下方照射第2测量光束，进行该保持构件之位置资讯之测量；且该测量站进行该检测系统所进行之该基板之测量处理；控制装置，于该曝光站中，基于由该第1测量系统测
量之位置资讯而控制该保持构件之移动，并且于该测量站中，基于由该第2测量系统测量之位置资讯而控制该保持构件之移动。
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