发明名称 用于光学监测之参考光谱的自动产生
摘要
申请公布号 TWI496661 申请公布日期 2015.08.21
申请号 TW100110371 申请日期 2011.03.25
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 大卫杰弗瑞杜鲁;李哈利Q;坤骏;章及明
分类号 B24B49/12;B24B37/005 主分类号 B24B49/12
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种产生参考光谱之电脑实施方法,该电脑实施方法包含以下步骤:在具有一可旋转平台之一研磨设备中研磨一第一基板;在研磨期间,用一第一原位监测系统量测来自该第一基板之一第一系列光谱;将该第一系列光谱中之各个光谱与一索引值相关联,该索引值等于平台旋转之一次数,其中在该等平台旋转之处量测该各个光谱;储存该第一系列光谱作为参考光谱;从一第二原位监测系统接收资料,其中该第二原位监测系统在该第一基板研磨期间监测该第一基板;基于来自该第二原位监测系统之该资料,侦测在该第一基板研磨期间该第一基板的一研磨终点,且不使用该第一原位监测系统来侦测该第一基板的该研磨终点;当藉由该第二原位监测系统侦测到该第一基板的研磨终点时,基于平台旋转之该次数,决定一目标索引值;在该研磨设备中研磨一第二基板;在该第二基板的研磨期间,用该第一原位监测系统且不使用该第二原位侦测系统,量测来自该第二基板之一第二系列光谱;及基于该参考光谱、该第二系列光谱及该目标索引 值,执行对该第二基板决定一研磨终点或对该第二基板上之至少一个区域调整一研磨参数之至少一者。
地址 美国