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经营范围
发明名称
用于半导体装置之不连续图案结合及相关系统及方法
摘要
申请公布号
TWI497612
申请公布日期
2015.08.21
申请号
TW101130522
申请日期
2012.08.22
申请人
美光科技公司
发明人
史契尔汉默 史考特D;欧诺 福洛弥;佛瑞 杰若米S
分类号
H01L21/50;H01L33/48
主分类号
H01L21/50
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种半导体装置,其包括:一第一基板;一第二基板,其具有复数个突出部及复数个凹入部,其中个别凹入部由相邻突出部限界且具有一封闭端,该第一基板及该第二基板中之至少一者具有复数个固态传感器,其中个别固态传感器至少部分地安置于对应凹入部内,且其中该等突出部系直接地邻接该第一基板;及一不连续结合,其介于该第一基板与该第二基板之间,该不连续结合包括在该等凹入部之该封闭端处结合至该第二基板之一结合材料,其中该等固态传感器安置于该第一基板与该结合材料之间。
地址
美国
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