发明名称 |
在基板之表面处提供顺序聚合物层之方法、底涂层及微影方法 |
摘要 |
|
申请公布号 |
TWI497217 |
申请公布日期 |
2015.08.21 |
申请号 |
TW100104476 |
申请日期 |
2011.02.10 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
彼得斯 爱蜜丽;威斯特 山达 佛芮得瑞克;库尔 罗伊洛夫 |
分类号 |
G03F7/16;H01L21/312;C09D201/00 |
主分类号 |
G03F7/16 |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种用于在一基板之一表面处提供一顺序聚合物层(ordered polymer)之方法,该方法包含:将一可自我组装(self-assemblable)聚合物层直接沈积至一基板上之一底涂层(primer layer)上以在该可自我组装聚合物层与该底涂层之间提供一界面;及处理该可自我组装聚合物层以提供成为包含在该界面处之第一组构域类型(domain type)及第二组构域类型之一顺序聚合物层的自我组装,其中该底涂层可在该可自我组装聚合物层成为该顺序聚合物层之该自我组装期间,回应于在该界面之第一轨迹(loci)处该经自我组装聚合物中之该第一组构域类型之存在,而改良在该等第一轨迹处该底涂层针对该第一组构域类型之化学亲和性(affinity)。
|
地址 |
荷兰 |