| 主权项 |
一种基板处理方法，其包括有：清洗步骤，其对形成有微细图案且由基板保持单元呈水平姿势所保持之基板的上表面供应清洗液；有机溶剂供应步骤，其用于将于包含有上述微细图案间隙之基板的上表面所附着之清洗液，利用表面张力比清洗液更低之既定液体之有机溶剂加以取代，而对由上述基板保持单元所保持之基板的上表面供应上述有机溶剂，藉此在该上表面上形成上述有机溶剂的液膜；高温保持步骤，其在上述有机溶剂供应步骤开始之后执行，藉由将由上述基板保持单元所保持之基板的上表面，保持在比上述有机溶剂沸点更高的既定高温，藉此在包含有上述微细图案间隙之上述基板的上表面全面形成上述有机溶剂的气相膜，并且在该气相膜的上方形成上述有机溶剂的液膜；有机溶剂排除步骤，其从由上述基板保持单元所保持之基板的上表面，将上述有机溶剂的液膜加以排除。 |
