发明名称 三次元集積におけるシリコン貫通電極(TSV)応力を低減するためのコンフォーマルコーティング弾性クッションの使用
摘要 集積回路組立体ならびにそれを製造する方法が提供されている。集積回路組立体は、それぞれの表面を含む第1のチップと第2のチップとを含み、ここで、第1のチップと第2のチップは表面同士が対面する接触構成で結合されている。集積回路組立体は、第1のチップと第2のチップを貫通するように配置された電極を含む。電極は、第1のチップおよび第2のチップそれぞれの少なくとも1つの材料によって取り囲まれている。電極の少なくとも一部分を封入するクッション層が電極と電極を取り囲む少なくとも1つの材料との間に形成される。
申请公布号 JP2015524172(A) 申请公布日期 2015.08.20
申请号 JP20150516194 申请日期 2013.06.06
申请人 发明人
分类号 H01L25/065;H01L25/07;H01L25/18 主分类号 H01L25/065
代理机构 代理人
主权项
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