发明名称 |
一种薄膜太阳能电池的激光刻蚀方法及装置 |
摘要 |
本发明涉及太阳能电池刻蚀技术领域,公开了薄膜太阳能电池的激光刻蚀方法及装置。该方法包括步骤S1.形成薄膜太阳能电池的步骤,所述薄膜太阳能电池包括玻璃基板、前电极、半导体层和背电极;步骤S2.采用波长为532nm的激光透过玻璃基板和前电极后对半导体层和背电极进行激光刻蚀。本发明可使薄膜太阳能电池既具有电池的发电功能又具有透光性,满足了光伏建筑一体系统的需求。 |
申请公布号 |
CN104842073A |
申请公布日期 |
2015.08.19 |
申请号 |
CN201410053331.1 |
申请日期 |
2014.02.17 |
申请人 |
大族激光科技产业集团股份有限公司 |
发明人 |
黄秋香;张峻诚;谢建;陈明金;陶尚辉;高云峰 |
分类号 |
B23K26/362(2014.01)I;H01L31/20(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/362(2014.01)I |
代理机构 |
北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 |
代理人 |
王昌贵 |
主权项 |
一种薄膜太阳能电池的激光刻蚀方法,其特征在于:该方法包括以下步骤,步骤S1.形成薄膜太阳能电池的步骤,所述薄膜太阳能电池包括玻璃基板(1)、前电极(2)、半导体层(3)和背电极(4);步骤S2.采用波长为532nm的激光透过玻璃基板(1)和前电极(2)后对半导体层(3)和背电极(4)进行激光刻蚀。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区高新技术园北区新西路9号 |