| 发明名称 | 溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种溅射靶，将多个分割靶排列到背衬板上并且与该背衬板接合而构成，所述溅射靶的特征在于，在排列的多个各分割靶的表面，具有从距该分割靶的侧面的距离为23.0mm～0.10mm的位置朝向分割靶的侧面向下倾斜的5～40°的斜坡。本发明的课题在于提供一种溅射靶、特别是FPD用溅射靶，其即使在分割靶的连续溅射时，也能够抑制结核的产生和异常放电，并且在与间隙部分对置的基板上形成的膜的特性与其他部分的膜的特性没有差异，即得到膜特性的均匀性高的膜。 | ||
| 申请公布号 | CN103348035B | 申请公布日期 | 2015.08.12 |
| 申请号 | CN201180004937.0 | 申请日期 | 2011.12.09 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 挂野崇;铃木了;栗原敏也;中村祐一郎;关和广;牧野修仁;熊原吉一 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C04B37/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 金龙河;樊卫民 |
| 主权项 | 一种溅射靶，将多个分割靶排列到背衬板上并且与该背衬板接合而构成，所述溅射靶的特征在于，在排列的多个各分割靶的表面，具有从距该分割靶的侧面的距离为23.0mm～0.10mm的位置朝向分割靶的侧面向下倾斜的5～40°的斜坡。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||