光刻设备、可编程图案形成装置和光刻方法

摘要

在一个实施例中，公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括：调制器，配置成使衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光；和投影系统，配置成将调制后的束投影到衬底上。调制器可以是相对于曝光区域可移动的和/或投影系统可以具有用于接收多个束的透镜阵列，所述透镜阵列相对于曝光区域是可移动的。

主权项

一种光刻设备，包括：衬底保持器，构造成保持衬底；调制器，配置成使所述衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光；和投影系统，配置成将所述调制的束投影到所述衬底上且包括接收所述多个束的透镜阵列，所述投影系统配置成在所述曝光区域的曝光期间相对于所述调制器沿着大致垂直于所述调制的束的光学轴线的方向移动所述透镜阵列，同时所述调制的束中的至少一个的辐射穿过所述透镜阵列中的至少一个透镜，其中在曝光期间所述透镜阵列在X‑Y平面内旋转，而所述衬底沿着所述X‑Y平面内的X方向移动。