发明名称 PROJECTION OPTICAL SYSTEM EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
摘要 예컨대 반사 굴절형이고 또한 축외 시야형의 액침 투영 광학계에 있어서, 상공간에 있어서 액체(침액)가 개재하는 범위를 작게 억제한다. 제1면의 축소상을 액체를 통해 제2면에 투영하는 투영 광학계는, 가장 제2면측에 배치된 굴절 광학 소자(Lp)를 구비하고 있다. 굴절 광학 소자의 출사면(Lpb)은 제2면 상에서 직교하는 2개의 축선 방향(X 방향 및 Y 방향)에 관하여 거의 대칭인 형상을 가지고, 출사면의 중심 축선(Lpba)과 굴절 광학 소자의 입사면(Lpa)의 외주에 대응하는 원(40)의 중심 축선(40a)과 거의 일치하며, 출사면의 중심 축선은 2개의 축선 방향 중 한쪽의 축선 방향(Y 방향)을 따라 광축(AX)으로부터 편심하고 있다.
申请公布号 KR101544336(B1) 申请公布日期 2015.08.12
申请号 KR20147008141 申请日期 2006.05.08
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 오무라 야스히로;오카다 다카야;나가사카 히로유키
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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