| 摘要 |
<p>본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 내부에 상면이 개방된 처리 공간을 가지는 챔버; 상기 챔버 내에 배치되며 기판을 지지하는 지지유닛; 상기 챔버의 개방된 상면에 설치되어 상기 개방된 상면을 덮는 유전체 어셈블리; 및 상기 유전체 어셈블리의 상측에 위치되고, 상기 챔버 내로 공급되는 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 안테나를 가지는 플라즈마 소스를 포함하되; 상기 유전체 어셈블리는 유전체 윈도우; 및 상기 유전체 윈도우의 상부면에 설치되고, 상기 유전체 윈도우을 가열하는 비금속 재질의 가열 유닛을 포함한다.</p> |
