一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件

摘要

本发明公开了一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件，其包括以下步骤：A、对真空室加热，使真空室总气压控制在0.2Pa以下；B、在负偏压-300~-500V，恒定电流13~17A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射；在负偏压-50 ~-70V，恒定电流6~10A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射；C、通过离子源向真空室喷入氮气；在负偏压-80~-120V，恒定电源6~8A的条件下，控制Cr对靶和Si对靶交替进行溅射，最终制得CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜。通过本发明，使得手表部件在佩戴过程中不易因碰撞或相互摩擦而产生划痕或不细微凹点，有效延长手表的使用寿命。

主权项

一种应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，包括以下步骤：A、抽真空：对真空室加热，将手表部件放置于真空室中，并布置磁控靶和离子源，所述磁控靶为2~4对的Cr对靶和Si对靶；再对真空室抽真空至总气压低于5×10^‑3Pa，再通入惰性气体，使真空室总气压控制在0.2Pa以下；B、预处理：在负偏压‑300 ~ ‑500V，恒定电流13~17A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射8~12min，清除手表部件上的氧化物；在负偏压‑50 ~ ‑70V，恒定电流6~10A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射4~6min，在手表部件上沉积一层Cr过渡层；C、纳米多层薄膜沉积：通过离子源向真空室喷入氮气，所述氮气与真空室中惰性气体的体积比控制为1:2，并使真空室总气压控制在0.3Pa以下；在负偏压‑80 ~ ‑120V，恒定电源6~8A的条件下，控制Cr对靶和Si对靶交替进行溅射，Cr对靶溅射时沉积得到CrN层，Si对靶溅射时沉积得到Si_xN_y层，最终制得CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜。