PHOTOMASK BLANK AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING PHOTOMASK, AND PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

摘要

차광막의 패터닝 시에 양호한 평탄도를 가짐으로써, 양호한 마스크 패턴 정밀도 및 패턴 전사 정밀도가 얻어지는 포토마스크 블랭크 및 포토마스크의 제조 방법을 제공한다. 본 발명에서는, 투광성 기판 위에 적어도 크롬을 함유하는 차광막을 갖는 포토마스크 블랭크로서, 상기 차광막 위에 형성되는 레지스트막에 따른 가열 처리에 의한 차광막의 막 응력 변화를 예상하고, 이 막 응력 변화와는 반대 방향의 원하는 막 응력이 생기는 차광막을 형성한다. 이 포토마스크 블랭크에서의 상기 차광막을 드라이 에칭 처리에 의해 패터닝함으로써, 포토 마스크를 제조한다.