マスクユニット、基板処理装置及びマスクユニット製造方法並びに基板処理方法

摘要

基板処理装置は、円筒面に沿って保持されたマスクのパターンを基板の表面に形成された光感応層に形成する基板処理装置であって、前記円筒面に沿って前記マスクを保持するマスク保持面を備え、所定の軸線周りに回転可能なマスク保持部と；前記基板が接触保持される基板保持面を備え、前記所定の軸線と略平行な軸線周りに周回可能な周回保持部と；前記マスク保持面と前記基板保持面との間に所定量のギャップを形成するギャップ形成部と、を備える。