| 主权项 |
一种光阻组成物，其为含有基于酸之作用而对硷显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，与经由曝光产生酸之酸产生剂成份(B)，与含氮有机化合物成份(D)之光阻组成物，其特征为，前述含氮有机化合物成份(D)为含有下述通式(d1)所表示之化合物，
[式中，R20为伸甲基、伸乙基、氧原子或-C(CH3)2-；R21为氢原子或有机基；R22为碳数1~10之烷氧基、-O-C(=O)-O-R220[式中，R220为碳数1~10之直链状、支链状或环状之烷基]、羟基、卤素原子、-C(=O)-O-R23、-C(=O)-NH-R23或羧基；其中，R23为碳数1~15之直链状或支链状之烷基、不饱和烃基、脂肪族环式基或芳香族烃基；a为0~2之整数]。 |
