自矽组成物移除矽化物之方法以及以此等方法制造之产品;METHODS OF REMOVING SILICIDES FROM SILICON COMPOSITIONS, AND PRODUCTS MADE BY SUCH METHODS

摘要

本发明揭示用于选择性蚀刻矽-矽化物(silicon-silicide)材料的新颖方法，及由该材料制作的产物。一种方法可包括使用流体(例如氢氟酸(HF)、磷酸(H3PO4)及上述之混合物)接触矽-矽化物产物之表面。伴随该接触步骤，可经由该流体从该矽-矽化物产物去除至少一些该矽化物，其中在该去除步骤期间去除的矽化物之平均量为矽化物去除率(MSix-RR)。还伴随该接触步骤(b)的是，可保留该矽-矽化物产物之一大部分的矽，其中在该保留步骤期间去除矽的平均速率为矽去除率(Si-RR)。该矽化物去除率对该矽去除率之比率可为至少5.0(MSix-RR/Si-RR5.0)。