发明名称 |
显示装置和其制造方法;DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
摘要 |
本发明的目的在于如下:当在像素电极上形成金属膜并为叠层结构时,使用一个抗蚀剂掩模形成像素电极及金属膜。本发明的技术方案在于如下:叠层当成像素电极的导电膜和金属膜;使用具有半透光部分的曝光掩模在金属膜上形成具有膜厚度厚的区域和膜厚度比该区域薄的区域的抗蚀剂图案;以及使用抗蚀剂图案形成像素电极和接触于该像素电极的一部分的金属膜。根据以上所述,可以使用一个抗蚀剂掩模形成像素电极及金属膜。 |
申请公布号 |
TW201530785 |
申请公布日期 |
2015.08.01 |
申请号 |
TW104114266 |
申请日期 |
2006.10.14 |
申请人 |
半导体能源研究所股份有限公司 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
发明人 |
木村肇 KIMURA, HAJIME |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);G02F1/136(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |