发明名称 负型光阻组成物及图型之形成方法
摘要
申请公布号 TWI494693 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW100101045 申请日期 2011.01.12
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 土门大将;增永惠一;田中启顺;渡边聪
分类号 G03F7/038;C08K5/42;C08K5/16;H01L21/027 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种化学增幅型负型光阻组成物,其特征为含有(A)下述(i)、(ii)、(iii)的任一种成分:(i)基础聚合物与交联剂之组合;该基础聚合物为高分子化合物,该高分子化合物含有下述通式(1)及下述通式(2)所表示之重复单位,该交联剂于酸存在下可对上述通式(1)经由亲电子反应而形成交联, (式中,A及B分别表示单键或链之中间可含有醚键结之碳数1~10之伸烷基;R1分别表示独立之氢原子或甲基,Rx分别表示独立之氢原子,或碳数1~6之烷基;X表示氢原子、碳数1~20之直链状、支链状或环状之烷基、碳数2~20之烷氧烷基、碳数2~20之烷基硫烷基、卤素原子、硝基、或氰基;Y表示碳数1~20之烷基或碳数1~ 20之醯基;a及c为0~4之整数,b为1~5之整数,d为0~5之整数;P及Q表示0或1,s及t表示0~2之整数)、(ii)上述高分子化合物中,再含有具有于酸存在下可对上述通式(1)经由亲电子反应而形成交联之机能的重复单位之聚合物而成的基础聚合物、(iii)如上述(ii)之基础聚合物与于酸存在下可对上述通式(1)经由亲电子反应而形成交联之交联剂的组合;(B)酸产生剂;(C)含有作为硷性成份之氮的化合物之化学增幅型负型光阻组成物,上述基础聚合物之至少一部份为具有下述通式(3)所表示之烷硫基,且重量平均分子量为1,000~2,500,(式中,R3表示碳数1~20之直链状、支链状或环状之烷基、碳数2~20之羟烷基、碳数2~20之烷氧烷基、碳数1~20之氢硫基烷基,或碳数2~20之烷基硫烷基)。
地址 日本