发明名称 リソグラフィー用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびに基板の製造方法
摘要 酸脱離性基を含む単量体単位と、酸脱離性基を含まない単量体単位を有し、GPCにより得られる溶出曲線において共重合体に係るピークを示す溶離液を、溶出順に、体積が均等になるように分割した5個のフラクションのうち、最も先に溶出された1番目から4番目までの各フラクションに含まれる共重合体における酸脱離性基を含む単量体単位の比率をN(v1)〜N(v4)モル%とし、5個のフラクションの合計に含まれる共重合体における酸脱離性基を含む単量体単位の比率をNaveモル%としたとき、N(v1)/Naveが1.01〜1.09であり、N(v2)/Nave、N(v3)/Nave、およびN(v4)/Naveがいずれも0.95〜1.05である、リソグラフィー用共重合体。
申请公布号 JPWO2013133250(A1) 申请公布日期 2015.07.30
申请号 JP20130512680 申请日期 2013.03.05
申请人 三菱レイヨン株式会社 发明人 安田 敦;押切 友也
分类号 C08F220/18;G03F7/039 主分类号 C08F220/18
代理机构 代理人
主权项
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