发明名称 一种羟基清除化合物、其制备方法及其用途
摘要 本发明涉及一种具有通式(1)的化合物,其中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>和A具有文中给出的含义。此外,本发明还涉及该化合物的制备方法及其用于对填料进行表面改性的用途。<img file="DDA00002374301400011.GIF" wi="799" he="268" />
申请公布号 CN102911198B 申请公布日期 2015.07.29
申请号 CN201210445574.0 申请日期 2012.11.08
申请人 广州市回天精细化工有限公司 发明人 乐小飞;徐珊;赵勇刚
分类号 C07F7/18(2006.01)I;C09C1/28(2006.01)I;C09C3/12(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08L83/04(2006.01)I 主分类号 C07F7/18(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人 钟守期;唐铁军
主权项 式(1)的化合物:<img file="FDA0000674840690000011.GIF" wi="824" he="292" />其中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>和R<sub>4</sub>彼此独立地代表取代或未取代的C1‑C20烷基、取代或未取代的C3‑C20环烷基、或取代或未取代的C6‑C20芳基,当取代时,所述取代基为一个或多个选自C1‑C8烷基、C1‑C8烷氧基和C6‑C14芳基的基团;且A代表取代或未取代的C2‑C20亚烷基,所述亚烷基任选在链中的一个或多个碳原子被氧原子替代,但所述氧原子彼此不直接相连;当取代时,所述取代基为一个或多个选自C1‑C8烷基和C1‑C8烷氧基的基团。
地址 510800 广东省广州市花都区新华街岐北路6号