发明名称 凹部バリア層を備えた高電子移動度トランジスタ
摘要 <p>Embodiments of a high electron mobility transistor with recessed barrier layer, and methods of forming the same, are disclosed. Other embodiments are also be described and claimed.</p>
申请公布号 JP5756667(B2) 申请公布日期 2015.07.29
申请号 JP20110077362 申请日期 2011.03.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/338;H01L21/337;H01L27/095;H01L29/41;H01L29/778;H01L29/808;H01L29/812 主分类号 H01L21/338
代理机构 代理人
主权项
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