发明名称 金属有机化学气相沉积设备
摘要 在衬底上形成薄膜的过程中,需要一种化学气相沉积设备来提高过程效率并形成高品质的薄膜。为此,根据本发明的化学气相沉积设备包括:多个反应腔,衬底通过闸门进入所述反应腔中并且对层叠在所述反应腔中的衬底支撑件的上表面上的所述衬底进行处理;缓冲腔,连接所述多个反应腔,从所述多个反应腔中的一个中取出衬底,并且使得所述衬底穿过所述缓冲器,以进入所述多个反应腔中的另一个反应腔;加热器,位于所述多个反应腔或所述缓冲腔中;气体供应装置,用于向所述多个反应腔供应处理气体;第一方向传输单元,用于将上面层叠有所述衬底的板从所述反应腔传输到所述缓冲腔或从所述缓冲腔传输到所述反应腔;以及第二方向传输单元,用于将位于所述多个反应腔中的某一闸门前面的所述板或所述衬底传输到所述多个反应腔的另一个闸门前面的另一位置。
申请公布号 CN102804340B 申请公布日期 2015.07.29
申请号 CN201080063854.4 申请日期 2010.07.16
申请人 丽佳达普株式会社 发明人 洪性在;韩锡万;陈周;郑镇烈
分类号 H01L21/205(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 许向彤;林锦辉
主权项 一种金属有机化学气相沉积设备,包括:多个反应腔,以在化学气相沉积过程中通过喷射III族金属气体和V族气体来形成金属有机层;缓冲腔,包括用于控制到预定温度的加热器,并且所述缓冲腔被控制以在其中形成预定气体气氛,并且与所述多个反应腔耦接,从而当衬底从所述多个反应腔中的一个传输到所述多个反应腔中的其他的反应腔时,所述衬底穿过所述缓冲腔;传输单元,被配置为进入所述缓冲腔,然后将上面装载有所述衬底的基座从所述多个反应腔中的一个传输到所述缓冲腔,然后将所述基座传输到所述多个反应腔中的其他的反应腔,然后从所述缓冲腔中取出所述传输单元;气体供应装置,被配置为向所述多个反应腔和所述缓冲腔供应处理气体;以及第一方向传输单元,被配置为将上面装载有所述衬底的板或基座从所述反应腔传输到所述缓冲腔或从所述缓冲腔传输到所述反应腔;其中,所述第一方向传输单元被置于所述缓冲腔之外并且被配置为将所述板从所述反应腔传输到所述缓冲腔或从所述缓冲腔传输到所述反应腔。
地址 韩国京畿道