基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置

摘要

基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置属于表面形貌测量技术领域；该测量装置包括激光器、沿光线传播方向配置在激光器直射光路上的会聚物镜、第一针孔、准直扩束物镜和分光镜；配置在分光镜反射光路上的聚焦物镜、位移驱动器、参考镜、分光棱镜和被测件；配置在分光镜透射光路上的成像会聚物镜、窄带滤光片、第二针孔和探测器；所述的被测件和参考镜表面采用真空蒸发镀膜法进行镀膜；这种通过镀膜改变被测面的表面特性的设计，保证测量光经被测面反射后能够返回探测系统，解决了高NA和高斜率表面检测的难题，适用于高NA和高斜率球面、非球面和自由曲面三维形貌的超精密测量。

主权项

基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置，其特征在于包括激光器(1)、沿光线传播方向配置在激光器(1)直射光路上的会聚物镜(2)、第一针孔(3)、准直扩束物镜(4)和分光镜(5)；配置在分光镜(5)反射光路上的数值孔径在0.25至0.55之间的聚焦物镜(6)、位移驱动器(7)、参考镜(8)、分光棱镜(9)和被测件(10)；配置在分光镜(5)透射光路上的成像会聚物镜(11)、中心波长为610nm，带宽为50nm的窄带滤光片(12)、第二针孔(13)和探测器(14)；所述的被测件(10)和参考镜(8)表面采用真空蒸发镀膜法进行镀膜。